köşe yazarı
köşe yazarı
Yarı İletken Üretim Süreçleri (IV): Fotolitografi - Nano Ölçekte Devreler Oluşturma
2023-10-11 2706

Önceki makalelerde levha imalatını, oksidasyon süreçlerini ve entegre devrelerin kısmi geçmişini tanıtmıştık. Şimdi elektronik devre desenlerini levhaya aktaran fotolitografi sürecini incelemeye devam edelim. Fotolitografi, film kamerasıyla fotoğraf çekmeye benzer ancak tam olarak nasıl çalışır?


Fotolitografi, siyah beyaz fotoğrafların geliştirilmesine benzer

Yaygın olarak "fotoğraf" olarak adlandırılan fotolitografi, desenleri bir fotomask yoluyla açığa çıkararak devre tasarımlarını levhalara aktarma işlemi nedeniyle adını alır. Gofretler üzerinde kopyalar oluşturmak, ışığa duyarlı kağıt üzerinde siyah beyaz filmler geliştirmeye benzer.

Devre modelleri giderek yoğunlaştıkça, yüksek hassasiyetli nano ölçekli işlemler kullanılarak çip bileşenlerinin de azaltılması gerekiyor. Bu daha ince devre desenlerinin üretilmesi büyük ölçüde fotolitografi sürecine dayanır. Bu nedenle, talaşların boyutu küçüldükçe yüksek hassasiyet ve gelişmiş fotolitografi teknolojisi hayati önem taşıyor.


Plakalara devre desenleri çizmeye hazırlanıyor

Fotolitografi sürecine daha yakından bakalım. İlk adım, levha üzerine çizilecek devre modellerini tasarlamak için bilgisayar destekli tasarım yazılımı (EDA) kullanmaktır. Bu elektronik devre modelinin tuvali üzerinde mühendisler, yarı iletken çipin entegrasyon seviyesini belirleyen, hassas bir şekilde tasarlanmış bir düzen oluşturacaklar.


Fotoğraf negatiflerine benzer şekilde işlev gören fotoğraf maskeleri oluşturma

12.jpg

Krom (Cr) kullanılarak mikro devreler, devre tasarımını temsil eden fotoğraf maskesini oluşturmak için ultra saf kuvarstan yapılmış bir cam alt tabakaya aktarılır. Retikül olarak da bilinen fotomask, devre modellerini yansıtan fotoğraf filmi gibi işlev görür. Daha ince desenler elde etmek için fotomask, devre boyutlarından çok daha büyük olacak şekilde tasarlandı ve ardından lens optikleri kullanılarak levha üzerine optik olarak küçültüldü.

13.jpg


Fotolitografi süreci kaplama, pozlama ve geliştirme aşamalarını içerir.

1. Kaplama: Gofretin yüzeyine bir fotorezist (PR) tabakası kaplanır.

14.jpg

Hazırlık tamamlandıktan sonra bir sonraki adım gofretin üzerine desen çizmektir. İlk olarak, ışığa duyarlı bir fotorezist (PR) tabakası levhanın yüzeyine eşit şekilde uygulanır. Bu, gofretin fotoğraf geliştirmede kullanılan ışığa duyarlı kağıt gibi davranmasını sağlar. Yüksek kaliteli ve hassas devre desenleri üretmek için fotodirenç katmanının ince ve tekdüze olmasının yanı sıra ultraviyole ışığa karşı oldukça duyarlı olması gerekir.

2. Pozlama: Devre desenleri levha üzerine ışık kullanılarak çizilir.

15.jpg

Bir stepper kullanılarak fotomask üzerindeki devre tasarımı yansıtılıyor ve ultraviyole ışık kullanılarak fotodirençle kaplanmış levhaya aktarılıyor. Bu sürece "adım ve tekrarlı maruz kalma" adı verilir. Yarı iletken yongalar için gereken yüksek hassasiyet nedeniyle, pozlama alanı seçilebilir ve hassas bir şekilde kontrol edilebilir.

3. Geliştirme: Devre modelleri geliştirme süreci boyunca oluşturulur.

16.jpg

Fotolitografi sürecinin son adımına fotoğraf geliştirme sürecine benzer şekilde geliştirme adı verilir. Bu adım, levha üzerindeki devre modellerinin son şeklini belirlediği için çok önemlidir. Geliştirici çözeltisi levha üzerine püskürtülürken, istenen deseni oluşturmak için belirli alanların seçici olarak çıkarılması gerçekleşir.

Fotorezist ışığa tepkisine bağlı olarak pozitif veya negatif olabilir. Pozitif bir fotorezist kullanılırsa, ışığa maruz kalan (açıkta kalan) alanlar geliştirme sırasında kaldırılır ve ışığa maruz kalmayan alanlar geride bırakılır. Tersine, negatif bir fotorezist kullanılırsa bunun tersi meydana gelir.

Geliştirme adımı tamamlandıktan sonra fotolitografi işlemi de tamamlanır. Plakayı dikkatli bir şekilde incelemek için optik mikroskoplar da dahil olmak üzere çeşitli aletler kullanılır. Yalnızca tüm denetimleri geçen levhalar bir sonraki adıma geçer.


Bu makalede, hassas devre tasarımlarının levha üzerine yansıtılmasını içeren fotolitografi sürecini tanıttık. Bu serinin bir sonraki bölümü için bizi izlemeye devam edin; burada levha üzerinde istenen devre modellerini oluşturmak için aşındırma işlemi yoluyla gereksiz malzemeleri seçici olarak nasıl çıkaracağımızı öğreneceğiz.

İlgili Öneriler
whatsapp

WhatsApp

Whatsapp:+8618073002950