Birkaç gün önce 2. CCF Entegre Devre Tasarımı ve Otomasyonu Akademik Konferansı (CCF DAC 2021) Wuhan'da başarıyla gerçekleştirildi. Nanjing Integrated Circuit Design Service Industry Innovation Center Co., Ltd. (EDA İnovasyon Merkezi veya kısaca E-Creation), konferansa katılmak ve OpenEDA'nın en son ilerlemeleri hakkında bir konuşma yapmak üzere davet edildi.^® OpenEDI açık kaynak veri temeli bileşenlerinin de yer aldığı açık kaynak platformu, katılımcılardan büyük ilgi gördü. Aynı zamanda E-Chuang, açık kaynak projesinde OpenEDI'ye atıfta bulunan ve OpenEDA'yı gösteren Fudan Üniversitesi Mikroelektronik Okulu ile de teknolojiyi paylaştı.^® konferans sahasında entegre devre EDA elit mücadelesini destekleyecek açık kaynak platformu EDA yarışması gibi endüstri-üniversite entegrasyonunun ilerlemesi ve başarıları.

CCF DAC 2021'in tam adı 2. CCF Entegre Devre Tasarımı ve Otomasyon Konferansı'dır. Akademik Yıllık Toplantı. Konferans, bilgisayar ve mikroelektronik alanlarında entegre devre tasarımıyla ilgili araştırma ve teknoloji geliştirmeyle uğraşan uzmanları, akademisyenleri, araştırmacıları ve endüstri profesyonellerini akademik alışverişler yapmak ve teknik başarıları sergilemek üzere bir araya getiriyor. Bir entegre devre tasarımı ve elektronik tasarım otomasyonudur (EDA). Alanında yıllık akademik etkinlik. Bu CCF DAC 2021 konferansı, entegre devre tasarımı ve otomasyon alanındaki en son araştırma ilerlemelerini ve geliştirme trendlerini tanıtmak için Duke Üniversitesi, Pekin Üniversitesi, Fudan Üniversitesi ve yurt içi ve yurt dışındaki diğer ilgili kurumlardan tanınmış akademisyenleri davet etti ve endüstrileri davet etti. E-creation olarak Dünyada gelişen şirketlerin ana Ar-Ge personeli, teknoloji geliştirme deneyimlerini ve iş birliği ihtiyaçlarını paylaşıyor. Buna ek olarak konferans, endüstri, akademi ve araştırma arasındaki değişim ve işbirliğini daha da teşvik etmek için özel olarak davet edilen raporlar, özel tartışmalar, teknik forumlar, makale grubu toplantıları ve kurumsal sergiler gibi bir dizi bağlantı kurdu. E Creation, EDA ortaklığına ve ileri teknoloji araştırmalarına adanmış bir kuruluştur. CCF DAC 2021'e katılmaya davet edilmek ve OpenEDA hakkında yayın yapmak benim için bir onurdur^®Açık kaynak platformunda yapılan açılış konuşması ve son araştırma sonuçları, platformda açık kaynak EDA araştırma ve geliştirmesi yapan ilgili kurumlarla paylaşıldı.

      EDA, çip tasarımında en önemli yazılım aracıdır. Tasarımın sürekli olarak yüksek enerji verimliliğini hedef alması, EDA'ya yönelik açık kaynak talebini de öne çıkarıyor. ülkemin EDA sektörü geç başladı ve genel Ar-Ge gücünün zayıf ve dağınık olması, mesleki yeteneklerin nispeten yetersiz olması gibi sorunlar var. Açık kaynak sayesinde yurt içinde ve yurt dışında daha fazla Ar-Ge kaynağı toplanabilir ve açık kaynak platformları aracılığıyla EDA endüstrisini geliştirmek için yurt içinde ve yurt dışında daha fazla EDA işletmesi bir araya getirilebilir. başvuru. E tarafından başlatılan OpenEDA^®Açık kaynak platformu, yerli EDA endüstrisinin hızlı gelişimini desteklemek için EDA endüstrisinin acilen ihtiyaç duyduğu ortak teknolojileri hedefliyor. Yetenek eğitimi açısından, açık kaynak EDA'ya dayalı endüstri ve akademinin entegrasyonu da entegre devrelerde yetenekleri geliştirmenin önemli bir yoludur. Şu anda giderek daha fazla üniversite ve yerli işletme OpenEDA'yı temel alan E-Creation ile işbirliği yapıyor. ^® Platform, tüm süreç EDA deney platformunun açık kaynak temelinde geliştirilmesini ve uygulama araştırmasını yürütmektedir. E-Chuang Teknik Direktörü Tan Xiaohui, "OpenEDA" başlıklı yazısında^®EDA ortak teknolojisinin gelişimini teşvik edin", şunları belirtti: OpenEDI açık kaynak veri temel bileşenleri, Çin'deki ilk EDA temel ortak teknoloji platformudur ve EDA tam süreç araçlarını desteklemeye kararlıdır.

        Ana işlerden biri. Bu amaçla, Echuang tarafından geçen yılın ikinci yarısında başlatılan ve kurulan OpenEDA açık kaynak platformu, yerli bir EDA açık ekosistemi oluşturmaya yardımcı olmak üzere resmi olarak başlatıldı. Platformun ilk projesi olan açık kaynaklı EDA veri tabanı bileşeni OpenEDI da aynı dönemde resmi olarak piyasaya sürüldü ve EDA pazarındaki mevcut veri engellerini aşmayı ve Çin'in entegre devre tasarım endüstrisi zincirinin gelişimini desteklemeyi hedefliyor. E-Chuang teknik direktörü Tan Xiaohui, OpenEDI açık kaynak bileşenlerinin ortak ve ortak bileşenlere (veritabanları, ayrıştırıcılar, genel algoritmalar, genel bilgi işlem mimarisi) odaklandığını, OpenEDI aracılığıyla kullanıcıların tamamen açık kaynağa, zengin arayüzlere, birleşik ve verimli veritabanlarına ve algoritmalara erişebileceğini söyledi. Hiyerarşik ve artımlı tasarım için verimli bellek ve sembol tablosu yönetiminden yararlanan kitaplıklar ve bilgi işlem mimarileri.  
        Aynı zamanda, bu platformu temel alan bazı açık kaynaklı EDA projeleri, bu CCF DAC 2021'de gösterilen ön sonuçlara ulaştı. CCF DAC 2021 "openDACS v1.0 ana hat sürümü açık kaynak forumu" özel forumunda, Profesör Yang Fudan Üniversitesi hayranı ve E-Creation teknik direktörü Tan Xiaohui, "Fiziksel Tasarım ve Modelleme Doğrulama SIG - OpenEDI Açık Kaynak Veri Temel Bileşenleri ve Verilog Ayrıştırıcı" rapor paylaşımı başlıklı bir sunum yaptı. Fudan Üniversitesi, openDACS fiziksel tasarım modellemesi ve fiziksel doğrulama SIG'sinden sorumludur, forumda Verilog Ayrıştırıcıyı yayınladı ve topluluğun ölçeklenebilir araç geliştirmesini desteklemek için OpenEDI açık kaynak veri temel bileşen çerçevesini ve Verilog Ayrıştırıcının işlevlerini ve teknik ilkelerini ortaklaşa tanıttı. . E-Chuang, konferans alanında ayrıca kurumsal bir sergi standı kurdu. Geleceğe baktığımızda, EDA ve personel eğitiminin gelişimini hızlandırmak ve entegre devre endüstrisindeki yeniliklere yardımcı olmak amacıyla, ortak gelişim için endüstri ortaklarıyla el ele vermeye hazırız!

Yasal Uyarı: Bu makale "EDA İnovasyon Merkezi"nden kopyalanmıştır, bu makale Saco Micro ve sektörün görüşlerini değil, yalnızca yazarın kişisel görüşlerini temsil eder, yalnızca yeniden basılmak ve paylaşılmak içindir, destek Fikri mülkiyet haklarını korumak için lütfen orijinal kaynağı belirtin ve yeniden basım için yazar. Herhangi bir ihlal varsa, silmek için lütfen bizimle iletişime geçin.