1.3 NIST 和芯片计量项目概述

来自芯片计量项目和 NIST Boulder 实验室的 Marla Dowell 博士在工作组会议上发表了广受欢迎的主题演讲。主题演讲首先提醒与会者 NIST 的使命：通过推进测量科学、标准和技术来促进美国经济安全，提高我们的生活质量，实现创新和产业竞争力。

它强调了 NIST 的核心能力：(1) 测量科学，(2) 严格的可追溯性，以及 (3) 标准的开发和使用。 Dowell 提供了有关芯片计量项目、组织关系以及 NIST 国家研究机构背景的详细信息。 Dowell 强调行业和 NIST 需要合作，共同应对芯片行业面临的微电子挑战。她强调，NIST 是一个非监管实验室，一直是值得信赖的专有信息合作伙伴，中立、客观，通过传播高质量的测量、数据和研究来支持促进美国创新和工业竞争力的关键技术的开发。具体来说，在博尔德，NIST 拥有约 900 名工作人员和超过 500,000 平方英尺的实验室空间，包括六个领域：(1) 先进通信技术、(2) 量子科学与工程、(3) 时间和频率计量、(4)先进材料表征，(5) 精密成像，以及 (6) 激光和光电子学。随后Dowell重点介绍了NIST在微电子领域的长期投资组合，涉及多个领域。

道威尔随后讨论了“美国芯片法案”，并概述了美国为芯片提供资金的战略方面，包括它将如何支持三项不同的举措：（1）对前沿制造的重大投资，（2）成熟芯片的新制造能力、先进芯片、新技术和专业知识，以及（3）加强美国在研发方面的领导地位。强调了 39 亿美元的制造激励措施和 11 亿美元的研发激励措施之间的区别，重点是研究经费和 NIST 的测量科学拨款。 Dowell 讨论了半导体制造业、学术界和政府如何通过包括 EUVL 工作组会议在内的七个已确定的战略机会提供广泛的反馈。

通信技术实验室 (CTL) 提供了材料计量的示例，在成为芯片计量项目总监之前，Dowell 博士曾担任该实验室的部门主管，特别是在 5G 材料标准参考材料 (SRM) 领域。她与人共同撰写的 NIST SP1278 文档作为计量学如何提高微电子元件和产品的安全性和可追溯性的示例。

在主题演讲结束时，Dowell 介绍了提供与芯片相关的计量机会的 NIST 出版物。此外，25 年 2023 月 XNUMX 日上午，她的部门发布了一份文件，概述了国家半导体技术中心的愿景和战略，描述了未来行业和 NIST 的互动将如何进行。

美国国家标准与技术研究所 (NIST) 材料计量实验室 (MML) 代理主任 Stephanie Hooker 博士在工作组会议上发表主旨演讲，在下午会议前向与会者表示欢迎。胡克重申了 NIST 的使命，并强调其最大的优势是在世界级工程师和科学家中的声誉。除了分享 NIST 的规模和能力之外，重点还在于 NIST 提供的测量服务。测量服务包括超过 1100 种标准参考物质 (SRM)、大约 100 种标准参考数据 (SRD) 产品、5 个质量保证计划以及丰富的数据工具和注册。还重点介绍了文件化标准，以及 400 多名 NIST 技术人员如何参与 100 多个标准委员会，在许多国际标准组织中担任领导职务，从而提高美国的全球竞争力。她的演讲强调了 NIST 参与和扩展的关键技术领域，包括人工智能 (AI)、量子科学、先进通信、先进制造和生物经济。胡克最后介绍了与 NIST 合作的既定参与领域和方法，包括工作组会议、联盟、CRADA 和 MTA，这也是本报告的重点。

这两次主题演讲展示了工作组成员和 NIST 领导层之间的凝聚力和参与度。

EUVL（极紫外光刻）技术

对工作组会议上提出并讨论的EUVL技术方面进行了详细介绍。以下是专门讨论 EUV 光源模块的三个具体部分 (2.1-2.3)。然后，讨论了与 EUV 光相互作用的组件的现状和要求（2.4）。这两种成分都与 EUV 光相互作用。最后，介绍了使用 EUV 光作为分析半导体制造工艺中的组件的计量工具 (2.5)。 EUV 光作为工具的计量方面与第 XNUMX 节中讨论的辐射测量直接相关。这里讨论的技术细节已经公开发布。然而，将工业和 NIST 研究的技术专长和现状结合在一份报告中对于了解技术前景很有用。所包含的审查参考资料是为了补充本报告中提供的技术细节。

继续......