1.3 NIST 和晶片計量專案概述

來自晶片計量計畫和 NIST Boulder 實驗室的 Marla Dowell 博士在工作小組會議上發表了廣受歡迎的主題演講。主題演講首先提醒與會者 NIST 的使命：透過推動測量科學、標準和技術來促進美國經濟安全，提高我們的生活質量，實現創新和產業競爭力。

它強調了 NIST 的核心能力：(1) 測量科學，(2) 嚴格的可追溯性，以及 (3) 標準的發展和使用。 Dowell 提供了有關晶片計量項目、組織關係以及 NIST 國家研究機構背景的詳細資訊。 Dowell 強調產業和 NIST 需要合作，共同應對晶片產業面臨的微電子挑戰。她強調，NIST 是一個非監管實驗室，一直是值得信賴的專有資訊合作夥伴，中立、客觀，透過傳播高品質的測量、數據和研究來支持​​促進美國創新和工業競爭力的關鍵技術的開發。具體來說，在博爾德，NIST 擁有約900 名工作人員和超過500,000 萬平方英尺的實驗室空間，包括六個領域：(1) 先進通訊技術、(2) 量子科學與工程、(3) 時間和頻率計量、(4)先進材料表徵，(5) 精密成像，以及 (6) 雷射和光電子學。隨後Dowell重點介紹了NIST在微電子領域的長期投資組合，涉及多個領域。

道威爾隨後討論了“美國晶片法案”，並概述了美國為晶片提供資金的戰略方面，包括它將如何支持三項不同的舉措：（1）對前沿製造的重大投資，（2）成熟晶片的新製造能力、先進晶片、新技術和專業知識，以及（3）加強美國在研發方面的領導地位。強調了 39 億美元的製造激勵措施和 11 億美元的研發激勵措施之間的區別，重點是研究經費和 NIST 的測量科學撥款。 Dowell 討論了半導體製造業、學術界和政府如何透過包括 EUVL 工作小組會議在內的七個已確定的策略機會提供廣泛的回饋。

通訊技術實驗室 (CTL) 提供了材料計量的範例，在成為晶片計量專案總監之前，Dowell 博士曾擔任該實驗室的部門主管，特別是在 5G 材料標準參考材料 (SRM) 領域。她與人共同撰寫的 NIST SP1278 文件作為計量學如何提高微電子元件和產品的安全性和可追溯性的範例。

在主題演講結束時，Dowell 介紹了提供與晶片相關的計量機會的 NIST 出版物。此外，25 年 2023 月 XNUMX 日上午，她的部門發布了一份文件，概述了國家半導體技術中心的願景和策略，描述了未來產業和 NIST 的互動將如何進行。

美國國家標準與技術研究所 (NIST) 材料計量實驗室 (MML) 代理主任 Stephanie Hooker 博士在工作小組會議上發表主題演講，在下午會議前向與會者表示歡迎。胡克重申了 NIST 的使命，並強調其最大的優勢是在世界級工程師和科學家中的聲譽。除了分享 NIST 的規模和能力之外，重點還在於 NIST 提供的測量服務。測量服務包括超過 1100 種標準參考物質 (SRM)、約 100 種標準參考資料 (SRD) 產品、5 個品質保證計劃以及豐富的資料工具和註冊。還重點介紹了文件化標準，以及 400 多名 NIST 技術人員如何參與 100 多個標準委員會，在許多國際標準組織中擔任領導職務，從而提高美國的全球競爭力。她的演講強調了 NIST 參與和擴展的關鍵技術領域，包括人工智慧 (AI)、量子科學、先進通訊、先進製造和生物經濟。胡克最後介紹了與 NIST 合作的既定參與領域和方法，包括工作小組會議、聯盟、CRADA 和 MTA，這也是本報告的重點。

這兩次主題演講展示了工作小組成員和 NIST 領導層之間的凝聚力和參與度。

EUVL（極紫外光微影）技術

對工作小組會議上提出並討論的EUVL技術方面進行了詳細介紹。以下是專門討論 EUV 光源模組的三個特定部分 (2.1-2.3)。然後，討論了與 EUV 光相互作用的組件的現狀和要求（2.4）。這兩種成分都與 EUV 光相互作用。最後，介紹了使用 EUV 光作為分析半導體製造製程中的組件的計量工具 (2.5)。 EUV 光作為工具的計量方面與第 XNUMX 節中討論的輻射測量直接相關。這裡討論的技術細節已經公開發布。然而，將工業和 NIST 研究的技術專長和現狀結合在一份報告中對於了解技術前景很有用。所包含的審查參考資料是為了補充本報告中提供的技術細節。

未完待續...