SiC MOSFETसिलिकॉन कार्बाइड SiC उपकरणों की ड्रिफ्ट परत की प्रतिबाधा Si उपकरणों की तुलना में कम होती है, और MOSFET संरचना के साथ चालकता मॉड्यूलेशन के बिना उच्च वोल्टेज सहनशीलता और कम प्रतिबाधा प्राप्त की जा सकती है। इसके अलावा, MOSFET सिद्धांततः टेल करंट उत्पन्न नहीं करते हैं, जिससे स्विचिंग हानियों में काफी कमी आ सकती है और IGBT को SiC-MOSFET से प्रतिस्थापित करते समय ताप अपव्यय घटकों का लघुकरण प्राप्त किया जा सकता है। इसके अतिरिक्त, SiC-MOSFET की ऑपरेटिंग आवृत्ति IGBT की तुलना में काफी अधिक हो सकती है, जिससे इसके सर्किट में प्रेरक और संधारित्र घटक छोटे हो जाते हैं, और सिस्टम के छोटे आकार और हल्के वजन को आसानी से प्राप्त किया जा सकता है। समान 600V ~ 900V वोल्टेज वाले Si-MOSFET की तुलना में, SiC-MOSFET की चिप क्षेत्र छोटा होता है, इसे छोटे पैकेजों में उपयोग किया जा सकता है, और बॉडी डायोड की पुनर्प्राप्ति हानि बहुत कम होती है। वर्तमान में, SiC MOSFET मुख्य रूप से उच्च-स्तरीय औद्योगिक बिजली आपूर्ति, उच्च-स्तरीय इन्वर्टर और कनवर्टर, उच्च-स्तरीय मोटर ड्राइव और नियंत्रण आदि में उपयोग किए जाते हैं।
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