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乾貨| Bambound MOS管米勒效應
2022-03-17
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它是一個NMOS開關電路。階躍訊號VG1設定直流電平2V、方波(幅度2V、頻率50Hz)和T2的導通電壓2V,因此MOS管T2將在導通和截止狀態之間切換,週期T=20ms 。
先模擬Vgs和Vds的波形,可以看到當Vgs=2V時有一個小平台。有人會奇怪為什麼Vgs上漲的時候平台很小?
帶著這個問題,我們嘗試將電阻R1從5K改成1K,再次模擬,發現這個平台變得很小,幾乎沒有了。為什麼?
MOS Vgs小平台改進。
要理解這現象,就需要理論知識的支持。
MOS管等效模型
我們通常看到的MOS管圖是左圖,右圖稱為MOS管的等效模型。
其中,Cgs稱為GS寄生電容,Cgd稱為GD寄生電容,輸入電容Ciss=Cgs+Cgd,輸出電容Coss=Cgd+Cds,反向傳輸電容Crss=Cgd,也稱為米勒電容。如果您不知道MOS管輸入輸出電容的概念,請點擊:帶您了解MOS管參數“熱阻、輸入輸出電容和開關時間”米勒效應的罪魁禍首是米勒電容。米勒效應是指其輸入與輸出之間的分佈電容Cgd在逆放大作用下被放大,使得等效輸入電容值放大的效應。米勒效應將形成米勒平台。
首先我們要知道的是:因為MOS管的製造過程中一定會產生Cgd,也就是米勒電容一定存在,所以米勒效應是不可避免的。
米勒效應有哪些缺點?
MOS管的開通是一個從無到有的過程。 MOS管的D極和S極重疊時間越長,MOS管的導通損耗就越大。 由於米勒電容和米勒平台的存在,MOS管的導通時間變長,MOS管的導通損耗勢必會增加。
當我們在模擬中減少G極的電阻R1時,我們發現米勒平台得到了改善? 我們都應該知道為什麼。
MOS管的導通可以看成是輸入電壓透過閘極電阻R1對寄生電容Cgs充電的過程。 R1越小,Cgs充電越快,MOS管導通越快,這就是減少閘極電阻、改善米勒平台的原因。
那麼米勒平台上發生了什麼事?
對於NMOS管來說,在MOS管導通之前,D極電壓大於G極電壓。隨著輸入電壓的升高,Vgs升高,Cgd中儲存的電荷需要同時與輸入電壓中和,因為MOS管滿載時G極電壓大於D極電壓開啟。
因此,在米勒平台上,是Cgd充電的過程,此時Vgs的變化很小。當Cgd和Cgs處於同一水平時,Vgs開始繼續上升。
我們來分析下右圖的米勒效應,這個電路圖是什麼狀況?
MOS管的D極負載為電感加續流二極體,其運作方式與DC-DC BUCK相同。 MOS管導通時,VDD對電感L充電,由於MOS管導通時間極短,因此電感可以近似地看作一個恆定電流源。 MOS管關閉時,續流二極體為電感L提供放電通路,形成續流電流。MOS管的開通可分為四個階段。
t0~t1階段 從t0開始,G極對電容器Cgs充電。當Vgs從0V上升到Vgs(th)時,MOS管全部處於截止狀態,Vds保持不變,Id為零。
t1~t2階段
t1時刻之後,Vgs大於MOS管的導通電壓Vgs(th),MOS管開始導通,Id電流上升。此時的等效電路圖如下所示。當IDS電流未達到電感電流時,會有一部分電流流過二極管,二極體DF仍處於導通狀態,二極體兩端處於箝位狀態。此時Vds電壓幾乎不變,只有很小的下降(雜散電感的影響)。
T2~t3階段
隨著Vgs電壓的增加,當IDS電流與電感電流相同時,MOS管D極電壓不再被二極體DF箝位,DF處於反向截止狀態,因此Vds開始下降。此時G極的驅動電流轉移到Cgd充電,Vgs出現米勒平台,Vgs電壓維持不變,Vds逐漸下降至導通壓降VF。
從T3到T4,當米勒電容Cgd充滿電時,Vgs電壓繼續上升,直到MOS管完全導通。
結合MOS管的輸出曲線,總結MOS管的導通過程。
t0到t1期間,MOS管處於截止區; t1時刻之後,Vgs超過MOS管的導通電壓。隨著Vgs的增加,ID也隨之增加。當ID上升到與電感電流相同時,續流二極體反向關閉。 t2~t3時刻,Vgs進入米勒平台期,此時D極電壓不再被續流二極體箝位,MOS管的夾斷區變小。 t3時刻之後,Vgs持續上升,Vds逐漸下降,直至MOS管完全導通。
MOS管輸出曲線
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