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Diode à récupération rapide La structure interne de la diode à récupération rapide diffère de celle de la diode à jonction PN ordinaire ; elle appartient à la diode à jonction PIN, c'est-à-dire que la région de base I est ajoutée au milieu du matériau silicium de type P et du matériau silicium de type N pour former une plaquette de silicium PIN. En raison de la très faible épaisseur de la région de base, la charge de récupération inverse est très réduite, ce qui rend le temps de récupération inverse de la diode à récupération rapide plus court, la chute de tension directe plus faible, et la tension de claquage inverse (valeur de tenue en tension) plus élevée.
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