Industri semikonduktor telah mengatasi industri keluli tradisional dan industri automobil dan telah menjadi industri berteknologi tinggi bernilai tambah tinggi pada abad ke-21. Semikonduktor merupakan teras kepada banyak peralatan perindustrian dan digunakan secara meluas dalam bidang teras seperti komputer, elektronik pengguna, komunikasi rangkaian dan elektronik automotif.

Semikonduktor terutamanya mempunyai empat komponen: litar bersepadu, peralatan optoelektronik, peralatan diskret dan sensor; litar bersepadu merupakan teras industri semikonduktor, menyumbang lebih daripada 80%. Litar bersepadu termasuk cip logik, cip memori, cip analog, MPU, dan sebagainya. Perkembangan pesat litar bersepadu dari segi prestasi, integrasi dan kelajuan adalah berdasarkan perkembangan fizik semikonduktor, peranti semikonduktor dan proses pembuatan semikonduktor.

Industri semikonduktor mempunyai pasaran yang begitu besar, dan peralatan proses semikonduktor menyediakan asas pembuatan untuk pembuatan semikonduktor berskala besar. Pada masa hadapan, peranti semikonduktor akan lebih bersepadu dan kecil serta lebih berkuasa. Di bawah dilampirkan peralatan utama dalam proses pengeluaran semikonduktor.

1  Relau kristal tunggal

Fungsi peralatan: mencairkan bahan semikonduktor, menarik hablur tunggal dan menyediakan bahan kosong semikonduktor hablur tunggal untuk pembuatan peranti semikonduktor seterusnya.

Syarikat utama (jenama):

Antarabangsa: Syarikat PVA TePla AG Jerman, syarikat Ferrotec Jepun, syarikat QUANTUM DESIGN Amerika, syarikat Gero Jerman, syarikat KAYEX Amerika.

Domestik: Beijing Jingyuntong, Qixing Huachuang, Beijing Jingyi Century, Hebei Jinglong Sunshine, Xi'an University of Science and Technology Jinko, Changzhou Huasheng Tianlong, Shanghai Hanhong, Xi'an Huade, China Electronics Technology Group 48th Institute, Shanghai Shenhe Thermal Magnetic.

Relau epitaksi fasa wap 2

Fungsi peralatan: Menyediakan persekitaran proses khusus untuk pertumbuhan epitaksi fasa wap, merealisasikan pertumbuhan kristal lapisan nipis pada kristal tunggal yang mempunyai hubungan yang sepadan dengan fasa kristal kristal tunggal, dan membuat persediaan asas untuk pemfungsian pemendapan dasar kristal tunggal. Epitaksi fasa wap ialah proses khas pemendapan wap kimia. Struktur kristal lapisan nipis yang ditumbuhkan adalah kesinambungan substrat kristal tunggal dan mengekalkan hubungan yang sepadan dengan orientasi kristal substrat.

Syarikat utama (jenama):

Antarabangsa: Syarikat Peralatan CVD Amerika, Syarikat GT Amerika, Syarikat Soitec Perancis, Syarikat AS Perancis, Syarikat Proto Flex Amerika, Syarikat Kurt J. Lesker Amerika, Syarikat Bahan Gunaan Amerika.

Domestik: Kumpulan Teknologi Elektronik Institut China ke-48, Qingdao Serida, Hefei Kejing Materials Technology Co., Ltd., Beijing Jinsheng Micro-Nano, Jinan Liguan Electronic Technology Co., Ltd.

3 Sistem epitaksi pancaran molekul

Fungsi peralatan: Sistem epitaksi pancaran molekul menyediakan peralatan proses untuk menumbuhkan filem nipis mengikut keadaan tertentu pada permukaan substrat; epitaksi pancaran molekul ialah teknologi untuk menyediakan filem nipis kristal tunggal. Ia menumbuhkan filem nipis lapisan demi lapisan di sepanjang arah paksi kristal bahan substrat di bawah substrat yang sesuai dan keadaan yang sesuai.

Syarikat utama (jenama):

Antarabangsa: Syarikat Riber Perancis, Syarikat Veeco Amerika, Syarikat Instrumen DCA Finland, Syarikat Rakan Sekutu SVT Amerika, Syarikat NBM Amerika, Syarikat Omicron Jerman, Syarikat MBE-Komponenten Jerman, Syarikat Penyelidikan Gunaan Oxford (OAR) British.

Domestik: Shenyang Zhongke Instrument, Beijing Huidexin Technology Co., Ltd., Shaoxing Kuangtai Instrument Equipment Co., Ltd., Shenyang Keyou Vacuum Technology Co., Ltd.

4 Relau Pengoksidaan (VDF)

Fungsi peralatan: mengoksidakan bahan semikonduktor, menyediakan atmosfera pengoksidaan yang diperlukan, dan merealisasikan proses pengoksidaan semikonduktor seperti yang dijangkakan. Ia merupakan penghubung yang sangat penting dalam proses pemprosesan semikonduktor.

Syarikat utama (jenama):

Antarabangsa: Syarikat Thermco British, Syarikat penyelesaian terma Centrotherm GmbH Co.KG Jerman.

Domestik: Beijing Qixing Huachuang, Qingdao Furunde, Institut ke-48 Kumpulan Teknologi Elektronik China, Qingdao Xuguang Instrument Equipment Co., Ltd., Institut ke-45 Kumpulan Teknologi Elektronik China.

5 Sistem pemendapan wap kimia tekanan rendah (LPCVD)

Fungsi peralatan: Masukkan wap yang mengandungi reagen gas atau reagen cecair yang membentuk elemen filem nipis dan gas lain yang diperlukan untuk tindak balas ke dalam ruang tindak balas peralatan LPCVD, dan tindak balas kimia berlaku pada permukaan substrat untuk menghasilkan filem nipis.

Syarikat utama (jenama):

Antarabangsa: Hitachi International Electric Co., Ltd. dari Jepun,

Domestik: Shanghai Chijian Semiconductor Technology Co., Ltd., Institut ke-48 Kumpulan Teknologi Elektronik China, Institut ke-45 Kumpulan Teknologi Elektronik China, Kilang Instrumen Beijing, Kilang Jentera Shanghai.

6 Sistem pemendapan wap kimia dipertingkat plasma (PECVD)

Fungsi peralatan: Gunakan nyahcas cahaya dalam ruang pemendapan untuk mengionkannya dan kemudian lakukan tindak balas kimia pada substrat untuk memendapkan bahan filem nipis semikonduktor.

Syarikat utama (jenama):

Antarabangsa: Syarikat Proto Flex Amerika, Syarikat Tokki Jepun, Syarikat Shimadzu Jepun, Syarikat Penyelidikan Lam Amerika dan Syarikat Antarabangsa ASM Belanda.

Domestik: Institut ke-45 Kumpulan Teknologi Elektronik China, Kilang Instrumen Beijing, Kilang Jentera Shanghai.

7 Stesen percikan Magnetron (MSA)

Fungsi peralatan: Melalui medan magnet tertutup selari dengan permukaan sasaran semasa diod sputtering dan medan elektromagnet ortogonal yang terbentuk pada permukaan sasaran, elektron sekunder terikat pada kawasan tertentu pada permukaan sasaran untuk mencapai ketumpatan ion yang tinggi dan pengionan tenaga yang tinggi, dan atom atau molekul sasaran sputtering dan dimendapkan pada substrat pada kadar yang tinggi untuk membentuk filem nipis.

Syarikat utama (jenama):

Antarabangsa: Syarikat PVD Amerika, Syarikat Vaportech Amerika, Syarikat AMAT Amerika, Syarikat Hauzer Belanda, Syarikat Teer British, Syarikat Platit Switzerland, Syarikat Balzers Switzerland, Syarikat Cemecon Jerman.

Domestik: Kilang Instrumen Beijing, Instrumen Shenyang Zhongke, Chengdu Nanguang Industrial Co., Ltd., China Electronics Technology Group Institut ke-48, Core Equipment Co., Ltd., Kilang Jentera Shanghai.

8 Mesin penggilap mekanikal kimia (CMP)

Fungsi peralatan: Mengisar dan menggilap objek yang hendak digiling (semikonduktor) melalui kesan gabungan pengisaran mekanikal dan pelarutan cecair kimia dan "karat".

Syarikat utama (jenama):

Antarabangsa: Syarikat Bahan Gunaan Amerika, Syarikat Sistem Novartis Amerika, Syarikat Rtec Amerika.

Domestik: Lanzhou Lanxin High-tech Industry Co., Ltd., Elite Microelectronics.

9 Mesin Litografi

Fungsi peralatan: Sapukan gam pada permukaan substrat semikonduktor (wafer silikon), pindahkan corak pada topeng ke fotoresis, dan "salin" sementara struktur peranti atau litar ke wafer silikon.

Syarikat utama (jenama):

Antarabangsa: ASML dari Belanda, Syarikat Semikonduktor Lam dari Amerika Syarikat, Syarikat Nikon dari Jepun, Syarikat Canon dari Jepun, Syarikat ABM dari Amerika Syarikat, Syarikat SUSS dari Jerman dan Syarikat MYCRO dari Amerika Syarikat.

Domestik: Kumpulan Teknologi Elektronik Institut China ke-48, Kumpulan Teknologi Elektronik Institut China ke-45, Kilang Jentera Shanghai, Chengdu Nanguang Industrial Co., Ltd.

10 Sistem pengetsaan ion reaktif (RIE)

Fungsi peralatan: Gunakan voltan frekuensi tinggi antara elektrod rata untuk menghasilkan lapisan ion setebal ratusan mikron. Letakkan corak ke dalam corak, dan ion akan memberi impak kepada corak pada kelajuan tinggi untuk mencapai pengetsaan tindak balas kimia dan impak fizikal, dan merealisasikan pemprosesan dan pengacuan semikonduktor.

Syarikat utama (jenama):

Antarabangsa: Syarikat Evatech Jepun, Syarikat NANOmaster Amerika, Syarikat REC Singapura, Syarikat JuSung Korea Selatan, Syarikat TES Korea Selatan.

Domestik: Kilang Instrumen Beijing, Beijing Qixing Huachuang Electronics Co., Ltd., Chengdu Nanguang Industrial Co., Ltd., dan Kumpulan Teknologi Elektronik Institut China ke-48.

11 sistem etsa plasma ICP

Fungsi peralatan: Satu atau lebih atom atau molekul gas dicampurkan dalam ruang tindak balas dan membentuk plasma di bawah tindakan tenaga luaran (seperti frekuensi radio, gelombang mikro, dll.). Di satu pihak, kumpulan aktif dalam plasma bertindak balas secara kimia dengan bahan permukaan yang hendak diukir untuk menghasilkan produk yang meruap; sebaliknya, ion dalam plasma dipandu dan dipercepatkan di bawah tindakan voltan bias, mencapai kakisan berarah dan kakisan dipercepatkan pada permukaan yang hendak diukir.

Syarikat utama (jenama):

Antarabangsa: Syarikat Oxford Instruments dari United Kingdom, Syarikat Torr dari Amerika Syarikat, Syarikat Gatan dari Amerika Syarikat, Syarikat Quorum dari United Kingdom, Syarikat Leman dari Amerika Syarikat dan Syarikat Pelco dari Amerika Syarikat.

Domestik: Kilang Instrumen Beijing, Beijing Qixing Huachuang Electronics Co., Ltd., China Electronics Technology Group Institut ke-48, Godel Plasma Technology (Hong Kong) Holdings Co., Ltd., Institut Mikroelektronik, Akademi Sains China, Mikroelektronik Utara, Beijing Oriental Zhongke Integrated Technology Co., Ltd., Beijing Chuangshi Weiner Technology.

12 Mesin etsa dan pembersihan basah

Fungsi peralatan: Pengukiran basah ialah teknologi yang merendam bahan pengukiran dalam cecair menghakis untuk kakisan. Pembersihan adalah untuk mengurangkan pencemaran, kerana pencemaran akan menjejaskan prestasi peranti, menyebabkan masalah kebolehpercayaan dan mengurangkan hasil. Ini memerlukan pembersihan menyeluruh sebelum proses seterusnya bagi setiap lapisan atau lapisan seterusnya.

Syarikat utama (jenama):

Antarabangsa: Japan Screen, Korea Selatan SEMES, Jepun Tokyo Electron dan Amerika Syarikat Lam Research.

Domestik: Nantong Hualincona Semiconductor Equipment Co., Ltd., Beijing Qixing Huachuang Electronics Co., Ltd., China Electronics Technology Group Institut ke-45, Taiwan Hongsu.

13 Ion implanter (IBI)

Fungsi peranti: Mendop kawasan berhampiran permukaan semikonduktor.

Syarikat utama (jenama):

Antarabangsa: Syarikat Peralatan Semikonduktor Varian Amerika, Syarikat CHA Amerika, Syarikat AMAT Amerika, Syarikat Peralatan Pembuatan Semikonduktor Varian (diambil alih oleh AMAT).

Domestik: Kilang Instrumen Beijing, Institut ke-48 Kumpulan Teknologi Elektronik China, Chengdu Nanguang Industrial Co., Ltd., Shenyang Fangji Light Industry Machinery Co., Ltd., Shanghai Silicon Tuo Microelectronics Co., Ltd.

14 bangku ujian prob

Fungsi peralatan: Menjalankan ujian elektrik dengan menghubungi prob dengan pad peranti semikonduktor untuk mengesan sama ada penunjuk prestasi semikonduktor memenuhi keperluan prestasi reka bentuk.

Syarikat utama (jenama):

Antarabangsa: Syarikat Ingun Jerman, Syarikat QA Amerika, Syarikat MicroXact Amerika, Syarikat Ecopia Korea, Syarikat Leeno Korea.

Domestik: Kumpulan Teknologi Elektronik Institut China ke-45, Beijing Qixing Huachuang Electronics Co., Ltd., Rico Instruments, Huarong Group, Shenzhen Semiconductor Technology.

Mesin penipisan wafer 15

Fungsi peralatan: mengurangkan ketebalan wafer melalui penggilapan.

Syarikat utama (jenama):

Antarabangsa: Syarikat DISCO Jepun, Syarikat G&N Jerman, Syarikat OKAMOTO Jepun, Syarikat Camtek Israel.

Domestik: Lanzhou Lanxin High-tech Industry Co., Ltd., Shenzhen Fangda Grinding Equipment Manufacturing Co., Ltd., Shenzhen Jinlili Precision Grinding Machine Manufacturing Co., Ltd., Weianda Grinding Equipment Co., Ltd., Shenzhen Huanianfeng Technology Co., Ltd.

16 Mesin dadu wafer (DS)

Fungsi peralatan: Memotong wafer menjadi kepingan kecil.

Syarikat utama (jenama):

Antarabangsa: Syarikat OEG Jerman, Syarikat DISCO Jepun.

Domestik: Institut Teknologi Elektronik China ke-45, Beijing Kechuangyuan Optoelektronik Technology Co., Ltd., Institut Penyelidikan Teknologi Instrumentasi Shenyang, Northwest Machinery Co., Ltd. (dahulunya Kilang Jentera Northwest milik negara 709), Huisheng Electronic and Electronic Machinery Equipment Co., Ltd., Lanzhou Lanxin High-tech Industry Co., Ltd., Han's Laser, Shenzhen Ruby Laser Equipment Co., Ltd., Wuhan Sangong, Zhuhai Lailian Optoelektronik, Zhuhai Yuemao Technology.

17 Pengikat Wayar

Fungsi peralatan: Sambungkan Pad pada cip semikonduktor dan Pad pada pin dengan wayar logam konduktif (wayar emas).

Syarikat utama (jenama):

Antarabangsa: Syarikat Aotei Amerika, Syarikat TPT Jerman, Syarikat FK Austria dan Syarikat UNISEM Malaysia.

Domestik: Kumpulan Teknologi Elektronik Institut China ke-45, Beijing Chuangshijie Technology Development Co., Ltd., Yuxin (Chengdu) Integrated Circuit Packaging and Testing Co., Ltd. (Pelaburan Kesatuan Malaysia), Shenzhen Kaijiu Automation Equipment Co., Ltd.

Ringkasan: Agar industri semikonduktor China mencapai lonjakan daripada pengesanan kepada peneraju, industri peralatan akan menjadi penghubung penting. Lebih banyak inovasi diperlukan untuk menerajui pembangunan peralatan semikonduktor China dan menggalakkan peningkatan pesat dalam proses dan teknologi cip negara saya.

Nota: Artikel ini diterbitkan semula daripada Internet dan menyokong perlindungan hak harta intelek. Sila nyatakan sumber asal dan pengarang semasa mencetak semula. Jika terdapat sebarang pelanggaran, sila hubungi kami untuk memadamkannya.

Nombor telefon syarikat: +86-0755-83044319
Faks/FAKS: +86-0755-83975897
E-mel: 1615456225@qq.com
SQ: 3518641314 Pengurus Li

QQ: 332496225 Pengurus Qiu

Alamat: Bilik 809, Bangunan C, Bangunan Teknologi Zhantao, No. 1079 Minzhi Avenue, Daerah Baharu Longhua, Shenzhen