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A Samsung Electronics realizou progressos significativos em seu processo de DRAM de sexta geração (10c) de 1 nanômetros, com uma taxa de rendimento superior a 50%. Esse avanço sinaliza o potencial da Samsung para aumentar sua competitividade no mercado de memórias de alto desempenho e planeja iniciar a produção em massa da Memória de Alta Largura de Banda (HBM4) de sexta geração no segundo semestre deste ano.
O nó tecnológico do processo DRAM 1c tem aproximadamente 11-12 nanômetros. Comparado às atuais DRAMs de quarta geração (1a, ~14 nm) e quinta geração (1b, ~12-13 nm), o processo 1c não só oferece maior densidade, como também reduz efetivamente o consumo de energia. Além disso, a espessura do chip é mais fina, o que facilitará o empilhamento de mais camadas de memória no HBM4, aumentando significativamente a capacidade e a densidade da largura de banda.
A Samsung tem se dedicado integralmente ao desenvolvimento da DRAM 1c desde o ano passado, liderada pelo Chefe de Desenvolvimento de DRAM, Hwang Sang-joon, no esforço de reformulação. Ele destacou que a razão fundamental para o fracasso inicial em atingir as metas de desempenho e rendimento reside em falhas na arquitetura inicial do projeto. Ele enfatizou que correções completas desde a fase de projeto foram essenciais para o progresso. Esta intervenção de alto nível para ajustar o processo de projeto demonstra a determinação da Samsung em retomar a liderança tecnológica.
A Samsung também planeja fornecer amostras do HBM4 no segundo semestre do ano, posicionando o "HBM personalizado" como uma nova estratégia central.
O HBM4 permite a integração de chips lógicos com a pilha DRAM. Ao otimizar a arquitetura geral por meio do processo de fundição, o objetivo é fornecer soluções eficientes e adaptadas às necessidades de diferentes aplicações. Além disso, a Samsung aplicará seu processo de 4 nanômetros, desenvolvido por ela mesma, ao chip lógico na base da pilha HBM4 para aprimorar o desempenho geral e a flexibilidade de integração.
Sobre SLKOR:
SLKOR, com sede em Shenzhen, China, é uma empresa nacional de alta tecnologia em rápido crescimento no setor de semicondutores de energia. Com centros de P&D em Pequim e Suzhou, sua equipe técnica principal é formada pela Universidade de Tsinghua. Como inovadora em tecnologia de dispositivos de energia de carboneto de silício (SiC), SLKOROs produtos da são amplamente utilizados em veículos de nova energia, geração de energia fotovoltaica, IoT industrial e eletrônicos de consumo, fornecendo soluções críticas de semicondutores para mais de 10,000 clientes no mundo todo.
A empresa entrega mais de 2 bilhões de unidades anualmente, com seus MOSFETs SiC e diodos SBD de recuperação ultrarrápida de 5ª geração definindo padrões do setor em taxa de eficiência e estabilidade térmica. SLKOR detém mais de 100 patentes de invenção e oferece mais de 2,000 modelos de produtos, expandindo continuamente seu portfólio de propriedade intelectual em dispositivos de energia, sensores e circuitos integrados de gerenciamento de energia. Certificações como ISO 9001, RoHS/REACH da UE e conformidade com CP65 demonstram o firme compromisso da empresa com a inovação tecnológica, a manufatura enxuta e o desenvolvimento sustentável.




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