Zarówno maszyny litograficzne EUV, jak i DUV są maszynami wysoce zaawansowanymi, stawiającymi wysokie wymagania dotyczące wielkości i szybkości produkcji przemysłowej. Jeśli każdy etap wymagałby ponownego ustawienia, zakładając, że maszyna litograficzna może przetwarzać tylko jedną matrycę na minutę, przetwarzałaby tylko nieco ponad 1000 matryc dziennie, a fabryka działałaby ze stratami.

Jest to coś, czego większość ludzi nie rozumie i łatwo jest nie docenić wymagań wydajnościowych przemysłowych maszyn litograficznych, które wymagają szybkiej, automatycznej i precyzyjnej ciągłej pracy.

Wykorzystanie źródła światła EUV do obróbki chipów nie jest niczym nowym. Naukowcy od samego początku wykorzystują źródła światła EUV z akceleratorów synchrotronowych do badań nad procesami chipowymi i stale publikują artykuły. Na przykład Instytut Paula Scherrera od dawna bada nowe technologie litografii EUV z wykorzystaniem szwajcarskiego akceleratora synchrotronowego. W środowisku akademickim źródła światła EUV nazywane są również miękkimi promieniami rentgenowskimi. Jednak charakterystyka tego typu badań nie polega na „masowej produkcji” czy oszczędzaniu czasu, ale raczej na powolnym wykonaniu kilku chipów, zmierzeniu niektórych danych, a następnie opublikowaniu znaczących odkryć. W ten sposób prowadzono badania, gdy nie było źródła światła EUV do zastosowań przemysłowych.

Z punktu widzenia branży najważniejsze w branży chipów są zastosowania inżynieryjne, masowa produkcja i opłacalność ekonomiczna. Jak obliczono powyżej, wymagania te są szczególnie wysokie, przy niewiarygodnie wysokiej wydajności i szybkości produkcji w przypadku produkcji masowej. Jeśli nie masz głębokiej wiedzy na temat procesu produkcji chipów, trudno sobie wyobrazić, jak nowoczesne fabryki mogą tak szybko przetwarzać i produkować ogromne ilości chipów.

To także jest proces. Na początku wióry wykonywano ręcznie lub półręcznie, a wydajność pozostawała niska. W lipcu 1977 r. Deng Xiaoping i 30 przedstawicieli społeczności naukowej i technologicznej odbyli dyskusje w Wielkiej Sali Ludowej. Wang Shouwu, badacz półprzewodników, powiedział: „W kraju jest ponad 600 fabryk półprzewodników, a całkowita ilość układów scalonych produkowanych w ciągu roku stanowi zaledwie jedną dziesiątą miesięcznej produkcji dużej fabryki w Japonii”. Na tym polega różnica między procesami ręcznymi i automatycznymi. Chociaż luka w procesie chipowania wydaje się niewielka, różnica w procesach produkcyjnych i poziomach technologicznych, które za nią stoją, jest znacząca.

Obecnie Chiny mogą produkować 1 miliard chipów dziennie, co stanowi znaczną poprawę, a wszystko to można osiągnąć dzięki zautomatyzowanym maszynom. Produkcja chipów jest nieuchronnie wykonywana przez maszyny, a ludzie mogą tylko nimi zarządzać. Maszyna produkuje wióry, a każdy proces przebiega bardzo szybko, zgodnie ze standardowym trybem produkcji na linii montażowej. Problem z liniami produkcyjnymi chipów FAB polega na tym, że są one podatne na problemy i wymagają wielu wykwalifikowanych pracowników do utrzymania ich sprawnego działania, co jest znacznie trudniejsze niż w przypadku innych linii produkcyjnych innych towarów.

Ciąg dalszy nastąpi...