Tanto las máquinas de litografía EUV como DUV son máquinas muy avanzadas, con altas exigencias de volumen y velocidad de producción industrial. Si cada paso requiere una realineación, suponiendo que la máquina de litografía sólo puede procesar un troquel por minuto, procesaría sólo un poco más de 1000 troqueles por día y la fábrica funcionaría con pérdidas.

Esto es algo que la mayoría de la gente no comprende y es fácil subestimar los requisitos de rendimiento de las máquinas de litografía de grado industrial que requieren un funcionamiento continuo rápido, automático y preciso.

El uso de una fuente de luz EUV para el procesamiento de chips no es algo nuevo. Los investigadores han estado utilizando fuentes de luz EUV procedentes de aceleradores de sincrotrón para la investigación de procesos de chips desde el principio, y esto ha continuado con la publicación periódica de artículos. Por ejemplo, el Instituto Paul Scherrer lleva mucho tiempo explorando nuevas tecnologías de litografía EUV utilizando el acelerador sincrotrón de Suiza. En el mundo académico, las fuentes de luz EUV también se denominan rayos X suaves. Sin embargo, la característica de este tipo de investigación no se refiere a la "producción en masa" o al ahorro de tiempo, sino a fabricar lentamente algunos chips, medir algunos datos y luego publicar descubrimientos significativos. Así se investigaba cuando no existía una fuente de luz EUV para aplicaciones industriales.

Desde una perspectiva industrial, lo más importante en la industria de los chips es la aplicación de ingeniería, la producción en masa y la viabilidad económica. Como se calculó anteriormente, este requisito es particularmente alto, con un rendimiento y una velocidad de producción increíblemente altos para la producción en masa. Si no se tiene un conocimiento profundo del proceso de fabricación de chips, es difícil imaginar cómo las fábricas modernas pueden procesar y producir grandes cantidades de chips con tanta rapidez.

Esto también es un proceso. Al principio, las virutas se fabricaban a mano o semimanualmente y el rendimiento seguía siendo bajo. En julio de 1977, Deng Xiaoping y 30 representantes de la comunidad científica y tecnológica mantuvieron debates en el Gran Salón del Pueblo. Wang Shouwu, un investigador de semiconductores, dijo: "Hay más de 600 fábricas de semiconductores en el país, y la cantidad total de circuitos integrados producidos en un año es sólo una décima parte de la producción mensual de una gran fábrica en Japón". Ésta es la diferencia entre procesos manuales y automáticos. Aunque la brecha en el proceso de los chips parece pequeña, la diferencia en los procesos de fabricación y los niveles tecnológicos detrás de ella es significativa.

Ahora, China puede producir mil millones de chips por día, una mejora significativa, todo logrado a través de máquinas automatizadas. La fabricación de chips se realiza inevitablemente mediante máquinas y las personas sólo pueden gestionarlas. La máquina produce chips y cada proceso transcurre muy rápidamente, siguiendo el modo de producción estándar en línea de montaje. El problema con las líneas de producción de chips FAB es que son propensas a tener problemas y requieren mucho personal capacitado para mantener su buen funcionamiento, lo cual es mucho más difícil que otras líneas de producción de otros productos básicos.

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