Литографические машины EUV и DUV являются высокотехнологичными машинами с высокими требованиями к объему и скорости промышленного производства. Если каждый шаг требует повторной настройки, то при условии, что литографическая машина может обрабатывать только один штамп в минуту, она будет обрабатывать лишь немногим более 1000 штампов в день, и фабрика будет работать с убытком.

Это то, чего большинство людей не понимают, и легко недооценить требования к производительности литографических машин промышленного уровня, которые требуют быстрой, автоматической и точной непрерывной работы.

Использование источника света EUV для обработки чипов — не новость. Исследователи с самого начала использовали источники света EUV из синхротронных ускорителей для исследования процессов изготовления чипов, и это продолжается с регулярными публикациями статей. Например, Институт Пауля Шеррера уже давно изучает новые технологии EUV-литографии с использованием швейцарского синхротронного ускорителя. В научных кругах источники EUV-света также называют мягким рентгеновским излучением. Однако особенностью этого типа исследований является не «массовое производство» или экономия времени, а скорее медленное изготовление нескольких чипов, измерение некоторых данных и последующая публикация значимых открытий. Именно так проводились исследования, когда не было источника EUV-света для промышленного применения.

С точки зрения отрасли, самое важное в производстве микросхем — это инженерное применение, массовое производство и экономическая целесообразность. Как подсчитано выше, это требование особенно велико, учитывая невероятно высокую производительность и скорость производства для массового производства. Если у вас нет глубокого понимания процесса производства чипов, трудно представить, как современные фабрики могут так быстро обрабатывать и производить огромное количество чипов.

Это тоже процесс. Вначале чипсы производились вручную или полуручным способом, и выход продукции оставался низким. В июле 1977 года Дэн Сяопин и 30 представителей научно-технического сообщества провели дискуссии в Доме народных собраний. Ван Шоуу, исследователь полупроводников, сказал: «В стране более 600 заводов по производству полупроводников, а общий объем интегральных схем, производимых за год, составляет лишь одну десятую ежемесячного объема производства крупного завода в Японии». В этом разница между ручными и автоматическими процессами. Хотя разрыв в процессе изготовления чипов кажется небольшим, разница в производственных процессах и технологических уровнях, стоящих за ним, значительна.

Теперь Китай может производить 1 миллиард чипов в день, что является значительным улучшением, и все это достигается за счет автоматизированных машин. Производством чипов неизбежно занимаются машины, и люди могут только ими управлять. Машина производит чипы, и каждый процесс протекает очень быстро, следуя стандартному режиму конвейерного производства. Проблема с линиями по производству чипсов FAB заключается в том, что они подвержены проблемам и требуют большого количества квалифицированного персонала для поддержания их бесперебойной работы, что намного сложнее, чем другие линии по производству других товаров.

Продолжение следует...